JIEBO Instrument · 11 production models
أجهزة طيف الانبعاث الضوئي ومحلّلات العناصر
تصنع JIEBO Instrument 11 موديلاً من الأجهزة التحليلية في ثلاث عائلات: مطيافيات OES بالشرارة، ومحلّلات عناصر بالاحتراق، ومحلّلات محمولة XRF و LIBS. كلّها صُنعت في ووشي، الصين، وصُدِّرت إلى أكثر من 40 دولة.
مقارنة الـ 11 موديلاً في لمحة
مواصفات رئيسية للترشيح السريع. انقر على أيّ اسم موديل لتظهر صحيفة المواصفات الكاملة والأسئلة الشائعة.
| الموديل | العائلة | الكاشف | الطول الموجي / النطاق | المصفوفات / العناصر | الوزن |
|---|---|---|---|---|---|
| Exquis T4 — مطياف الانبعاث الضوئي | OES | CMOS, sealed argon | 160–580 nm | Fe / Al / Cu / Zn · 50+ elements | 33 kg |
| Exquis T4 Pro — مطياف الانبعاث الضوئي | OES | 4096-px CMOS, sealed argon | HEPS source, 100–1000 Hz | Fe / Al / Cu / Ni / Co / Mg / Ti / Zn / Pb / Sn / Ag + N, C, S, P, B, As | ≈47 kg |
| Innovate T5 — مطياف الانبعاث الضوئي | OES | Hamamatsu CMOS, vacuum | 140–680 nm | 10 base matrices | 78 kg |
| Noble T7 — مطياف الانبعاث الضوئي | OES | Research-grade CMOS, ±0.1 °C | 120–800 nm | 10 base matrices · <10 ppm | 160 kg |
| Surpass F1 — مطياف الانبعاث الضوئي المحمول | OES | Portable spark probe | 160–425 nm | UV: C / P / S / B / As / Sn / Se / N | 45 kg |
| CS2020 — محلّل الكربون والكبريت بالأشعة تحت الحمراء عالية التردد | تحليل عناصر | 4 IR cells, auto cleaning | IR — C/S | C/S: 0.00001 – 99.99 % | 110 kg |
| CS995 — محلّل الكربون والكبريت | تحليل عناصر | 1 C + 1 S IR cell | IR — C/S | C: 0.0005 – 6 %; S: 0.0005 – 0.35 % | 115 kg |
| CS996 — محلّل الكربون والكبريت | تحليل عناصر | Expandable IR cells | IR — C/S | C: 0.0001 – 10 %; S: 0.0001 – 2 % | 215 kg |
| ONH-508 — محلّل الأكسجين والنيتروجين والهيدروجين | تحليل عناصر | NDIR + TCD | IR + TCD — O/N/H | O 0.5 ppm – 20 %; N 0.5 ppm – 50 %; H 0.2 ppm – 0.1 % | 160 kg |
| F6000 Pro — محلّل XRF محمول باليد | محمول | Si-PIN X-ray, 50 kV | X-ray fluorescence | Ti to U (alloy ID) | Handheld |
| F7000 Pro — محلّل LIBS محمول باليد | محمول | Class 3B laser plasma | LIBS broadband | Be, Mg, Al, Si, Ti, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu … | 1.25 kg |
مطيافيات الانبعاث الضوئي (5 موديلات)
Exquis T4 — مطياف الانبعاث الضوئي
جهاز Exquis T4 مطياف انبعاث ضوئي بالشرارة مكتبي مزوّد بغرفة بصرية بدورة أرغون مغلقة تقلّل استهلاك الغاز وتثبّت المسار البصري. كاشف CMOS متكامل منخفض الضوضاء يغطّي 160–580 نانومتر بحساسية عالية في الأشعة فوق البنفسجية للعناصر غير المعدنية (N و C و S و P)
Exquis T4 Pro — مطياف الانبعاث الضوئي
جهاز Exquis T4 Pro هو العمود الفقري الإنتاجي لسلسلة T4: مطياف انبعاث ضوئي بالشرارة مكتبي مبني حول غرفة بصرية كاملة الطيف بدورة أرغون مغلقة ومصفوفة CMOS منخفضة الضوضاء بدقة 4096 بكسل ذات استجابة مباشرة في الأشعة فوق البنفسجية العميقة — تُحلَّل N و C و S و P و B و As دون طلاء. يعمل مصدر الإثارة الرقمي الحاصل على براءة اختراع مع الاحتراق المسبق عالي الطاقة حتى 1000 هرتز ويطابق ظروف الشرارة مع المصفوفة تلقائياً؛ ويحافظ التحكم الحراري الشامل على ±0.1 درجة مئوية، ويستغرق بدء التشغيل البارد نحو 30 دقيقة
Innovate T5 — مطياف الانبعاث الضوئي
الجهاز Innovate T5 هو مطياف انبعاث ضوئي بطيف كامل مزوّد بغرفة بصرية مفرّغة ومصدر إثارة رقمي قابل للبرمجة. يستخدم كاشفات CMOS من Hamamatsu تجمع بين اتساع طيف CCD وحدود الكشف المنخفضة الخاصة بـ PMT للعناصر غير المعدنية (الكربون والكبريت والفوسفور والبورون)، ممّا يجعله مناسباً للمسابك ومختبرات المعادن وضبط جودة التصنيع المعدني.
Noble T7 — مطياف الانبعاث الضوئي
الجهاز Noble T7 مطياف انبعاث ضوئي بطيف كامل بدرجة بحثية، مصمَّم لمسابك ومصاهر ومختبرات تعالج كميّات كبيرة من العيّنات المعدنية الصلبة. غرفة بصرية ثابتة الحرارة (±0.1 °م) تحافظ على ثبات الموضع الطيفي طوال الورديات الطويلة، ونافذة عريضة من 120 إلى 800 نانومتر توفّر النفاذ إلى العناصر النزرة بمستويات من جزء واحد إلى أجزاء قليلة في المليون — مفيد لمراقبة جودة الطيران وأبحاث المواد الجديدة واختبارات الاعتماد.
Surpass F1 — مطياف الانبعاث الضوئي المحمول
الجهاز Surpass F1 مطياف انبعاث ضوئي متنقّل على عربة لاختبار موثوقية المواد المعدنية في الموقع. مع بطارية ليثيوم مدمجة وأسطوانة أرغون، ينقل التحليل إلى القطع الكبيرة أو الثابتة التي يتعذّر قطعها لإحضارها إلى المختبر — استلام الخردة وشبكات الأنابيب أثناء الخدمة وقضبان التسليح ومصبوبات ضخمة الأبعاد.
محلّلات العناصر (4 موديلات)
CS2020 — محلّل الكربون والكبريت بالأشعة تحت الحمراء عالية التردد
الجهاز CS2020 محلّل كربون وكبريت بالأشعة تحت الحمراء عالي التردّد ومؤتمت بالكامل، للصلب والخامات والمعادن النهائية والمواد غير العضوية. تغطّي أربع خلايا كشف فيزيائية النطاقات المنخفضة والعالية للتراكيز في جهاز واحد
CS995 — محلّل الكربون والكبريت
الجهاز CS995 محلّل كربون وكبريت مكتبي بالأشعة تحت الحمراء عالي التردّد، يفصل بين الكاشف المكتبي وفرن الحثّ. مصمَّم لضبط جودة الإنتاج في المسابك ومصانع الصلب وسبائك الحديد، ويحلّل المعادن الصلبة وسبائك الحديد والخامات والتربة وثاني أكسيد التيتانيوم بدقّة موثوقة وبحجم يناسب أي طاولة QC.
CS996 — محلّل الكربون والكبريت
الجهاز CS996 محلّل كربون وكبريت أرضي بالأشعة تحت الحمراء عالي التردّد بتصميم طاولة عمل تجمع الكاشف والفرن العمودي والميزان في محطّة واحدة. نطاق كشف أوسع (حتى 0.0001 %) وخلايا قابلة للتوسعة يجعلانه مناسباً للمصانع ذات أعباء العمل المختلطة الدرجات — من الصلب منخفض الكربون جداً إلى الحديد الزهر عالي الكربون — على نفس الجهاز.
ONH-508 — محلّل الأكسجين والنيتروجين والهيدروجين
الجهاز ONH-508 يحلّل في وقت واحد الأكسجين والنيتروجين والهيدروجين في الصلب وسبائك الأتربة النادرة والنحاس والزركونيوم والتيتانيوم والسيراميك والمساحيق غير العضوية. يجمع بين الكشف بالأشعة تحت الحمراء البيروكهربائية (للأكسجين والهيدروجين) والكشف بالتوصيل الحراري (للنيتروجين)، ويعتمد طريقة الانصهار في غاز خامل داخل فرن نبضي بالأقطاب (حتى 3000 °م و1500 أمبير).
محلّلات محمولة (موديلان)
F6000 Pro — محلّل XRF محمول باليد
الجهاز F6000 Pro محلّل فلوريسنت أشعة سينية (XRF) محمول للتعرّف غير المتلف على درجة السبيكة والتركيب العنصري. أنبوب أشعة سينية بقدرة عالية 50 كيلوفولت وستّة مرشّحات تجميع قابلة للتبديل وكاشف Si-PIN، تحدّد العناصر من التيتانيوم إلى اليورانيوم في ثوانٍ — مختبر في الجيب لساحات الخردة وفحص الأنابيب والتحقّق من المعادن الثمينة.
F7000 Pro — محلّل LIBS محمول باليد
الجهاز F7000 Pro محلّل محمول قائم على تقنية تحلّل اللّيزر الطيفي (LIBS) للتعريف الميداني والتحليل السريع للسبائك. على عكس أنظمة XRF القائمة على الأشعة السينية، يستخدم LIBS نبضة ليزر مركّزة لاستئصال عيّنة مجهرية وقراءة طيف انبعاثها — فيقيس العناصر الخفيفة التي يعجز عنها XRF بما فيها البريليوم والمغنيسيوم، دون إشعاع مؤيِّن.
كيف تختار موديل JIEBO المناسب
أحتاج OES لمسبك إنتاجي — أيّ موديل؟
يغطّي Innovate T5 معظم المسابك الإنتاجية (10 مصفوفات وغرفة مفرّغة و78 كغ). استخدم Noble T7 إذا احتجت عناصر نزرة دون 10 ppm أو عملاً بحثياً. استخدم Exquis T4 لميزانية محدودة ومصفوفة واحدة.
أحتاج فحصاً في الموقع دون قطع العيّنات.
استخدم F6000 Pro (XRF) لتعريف الدرجة بسرعة وغير متلف دون الكربون. استخدم F7000 Pro (LIBS) للعناصر الخفيفة (Mg و Si و Be) أو لتجنّب تنظيم الأشعة السينية. استخدم Surpass F1 (OES متنقّل) عند الحاجة لقياس الكربون والكبريت في الموقع.
أحتاج قياس الكربون والكبريت في الصلب أو الخام.
CS995 هو الخيار المكتبي الأساسي (115 كغ، خليّة C وأخرى S، نطاق من 0.0005 %). CS996 أرضي بخلايا قابلة للتوسعة (من 0.0001 %). CS2020 هو الراقي بأربع خلايا وتنظيف آلي للمختبرات عالية الإنتاجية.
أحتاج تحليل الأكسجين والنيتروجين والهيدروجين.
ONH-508 هو الموديل الوحيد هنا الذي يعالج O و N و H في وقت واحد عبر الانصهار في غاز خامل داخل فرن نبضي بالأقطاب. تطبيقاته الشائعة: التيتانيوم والزركونيوم وسبائك الأتربة النادرة والصلب منزوع الأكسجين.
ما المدد الزمنية والضمانات؟
تكوينات OES و C/S المتوفّرة في المخزون تُشحَن خلال 15 يوم عمل. ONH-508 المصنوع حسب الطلب: 30 يوم عمل. ضمان 12 شهراً على القطع واليد العاملة قابل للتمديد إلى 24 شهراً.
لست متأكّداً أيّ موديل يناسب تطبيقك؟
أرسل لنا مصفوفة العيّنة والعناصر المستهدفة وحجم الإنتاج عبر واتساب — يردّ المهندسون خلال 4 ساعات عمل بتوصية وعرض سعر ومدّة تسليم.
محادثة عبر واتساب · +86 181 1891 5721